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對於EUV光刻機的研發，困難很多，主要還是在光源這塊。
陳懷慶並不急迫，也沒有想著說，EUV光刻機在短時間就能夠搞定。
他心理的預期，在二十年內研發成功，那就完全的沒有問題。
畢竟，EUV光刻機主要用於10奈米以下。
但是也並不是就只有EUV光刻機能夠實現10奈米以下製程，像是dUV光刻機，最高能夠實現7奈米制程節點。
甚至陳懷慶還知道，就民用產品而言，14奈米的晶片，效能上面已經夠用，甚至可以說，在效能上還過剩。
依照現在墨塔微電的發展形勢來講，陳懷慶不覺得說，以後掌握14奈米光刻機技術有任何的問題。
就技術而言，墨塔微電在全球光刻機領域，也是第一梯隊的。
特別是後道光刻機領域，墨塔微電屬於全球第一的存在，其他光刻機企業根本就沒法和墨塔微電進行競爭。
優勢太過於明顯了。
技術優勢和價格優勢，這兩樣可是屬於核心優勢，在市場競爭當中直接打得對手毫無還手之力。
很順理成章的就把市場給佔了。
八九十年代的時候，全球光刻機企業有數十家之多，而到了現在，已經就只剩下數家。
主要在霓虹、華國、北美和歐洲。
至於說全球其他地區，已經在這塊沒有資格了。
技術門檻和技術壁壘都太高了，根本就不是一般國家，能夠玩得轉的東西。
注意，這裡不是說的企業！
企業很強，但是在國家面前，再強的企業也很弱。
第四代深紫外光(dUV)ArF光源已經研發成功了，現在就剩下不斷的進行完善。
墨塔微電的ArF光源光刻機研發進展的也相當順利。能夠如此的順利，和墨塔微電集合了整個華國的最尖端人才，以及獲得國家力量全力支援有著決定性的關係。
另外還有一點，就是最近十幾年時間裡面，墨塔微電聯合各所大學，對人才進行了專項的培養。
大量的優秀理工科大學生畢業生源源不斷的加入到墨塔微電。
“第四代光源光刻機預計能夠將晶片製程工藝推進到65奈米。”
意味著，在未來五年時間裡面，華國在半導體領域，都不用擔心被人超越，一直保持在全球第一梯隊上面。
“老闆，這是我們浸潤式dUV光刻機樣機。”
此時，全球範圍內，現在主要的都是乾式光刻機，以空氣為介質，193nm波長的光線，直接進行光刻。
而浸潤式技術即在光刻機中，採用水為介質，讓193nm波長的光線，進入水中進行折射後，讓波長變成132奈米，從而實現從45nm-10nm級別的光刻。
墨塔微電在之前的時候，自然也是搞的乾式光刻機，而在乾式光刻機領域，康尼和能佳屬於超級巨頭。
墨塔微電只能夠排在第三位。
至於說阿斯麥此時還只是一家小公司。
上一世，阿斯麥就靠著浸潤式dUV光刻機將康尼和能佳給徹底的踩在腳下的。
EUV光刻機的研發成功，才是徹底成就了阿斯麥在光刻機領域的霸主地位。
“浸潤式技術加上第四代光源，我們預計，能夠讓光刻製程推進到28奈米甚至10奈米以下。”
陳懷慶聽著介紹，不由的捏著下巴，上一世的時候，目光都盯著EUV光刻機去了，還真的沒太怎麼注意，EUV光刻機之前，光刻機到底是什麼。
但是陳懷慶知道，EUV光刻機在全球的出貨量並不算大，或者說能夠用到EUV光刻機的晶片產品，還是很
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